处理气量:(1-200)Nm3/h
压力:≤1.0Mpa
氩气纯度:≥99.999%
露点:≤-70℃
含氧量:≤1.5ppm
含氢量:≤0.5ppm
含氮量:≤4ppm
ΣCH≤1ppm
广泛应用于:
熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。
压力:≤1.0Mpa
氩气纯度:≥99.999%
露点:≤-70℃
含氧量:≤1.5ppm
含氢量:≤0.5ppm
含氮量:≤4ppm
ΣCH≤1ppm
广泛应用于:
熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。